工業(yè)冷水機(jī)真空鍍膜作業(yè)原理是膜體在高溫下蒸騰落在工件表面結(jié)晶。因?yàn)榭諝鈱?duì)蒸騰的膜體分子會(huì)發(fā)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無(wú)光，所以有必要在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密亮光，果如真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。前期真空鍍膜是依托蒸騰體散射，結(jié)合差工效低光澤差?，F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸騰分子在電場(chǎng)的效果下加快炮擊靶材，濺射出很多的靶材原子，呈中性的靶原蒸騰無(wú)法加工的膜體種類，如鍍鈦鍍鋯等等。

中頻設(shè)備有必要加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)集合在電導(dǎo)有表面積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以選用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。

（主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)發(fā)生高溫會(huì)使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來(lái)冷卻射槍。一起還有一個(gè)重要原因磁控濺射能夠被認(rèn)為是鍍膜技能中的成果之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。

從更深層次研討電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)規(guī)律，探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對(duì)稱性是磁束縛的本質(zhì)原因。磁控濺射能夠被認(rèn)為是鍍膜技能中的成果之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能安穩(wěn)。

工業(yè)冷水機(jī)是一種水冷卻設(shè)備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設(shè)備。其作業(yè)原理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入相應(yīng)量的水，通過(guò)制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達(dá)到冷卻的效果。冷卻水溫可根據(jù)要求主動(dòng)調(diào)理，長(zhǎng)期使用可節(jié)約用水。 

冷水機(jī)能操控真空鍍膜機(jī)的溫度，以確保鍍件的高質(zhì)量。假如不配冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到高精度、操控溫度的意圖，因?yàn)樗退岫疾豢杀苊獾厥艿綒鉁氐挠绊懀掖朔椒ú倏厥菢O不安穩(wěn)的。

工業(yè)冷水機(jī)具有完全獨(dú)立的制冷系統(tǒng)，絕不會(huì)受氣溫及環(huán)境的影響，水溫在5℃～30℃范圍內(nèi)調(diào)理操控，因而能夠達(dá)到高精度、操控溫度的意圖，冷水機(jī)設(shè)有獨(dú)立的水循環(huán)系統(tǒng)。